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レーザー マーク システム で メタレン を 選べる 方法
最新の会社ニュース レーザー マーク システム で メタレン を 選べる 方法

メタレンズは,長距離の焦点深度を提供し,様々な非平面物体を簡単かつ正確にマークし処理できるため,レーザー処理に非常に適しています.

 

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伝統的なf-thetaマークシステムと比較して,メタレンズマークシステムは以下の利点があります.

  • 超長景深 (>75 mm) mアークリング非平面表面ではZ軸の動きを必要とせず,非平面表面でも一貫した線厚さのマークを付けることができる.3D印刷や非平面加工に特に適している.
  • f-thetaレンズの除去により,スキャニングとマークヘッドの大きさは著しく減少しました.
  • 低コストで大量生産
  • どんなレーザー波長でも メタレンがカスタマイズできます
  • すべての電源レベルのレーザーアプリケーションに適しており,低電源レーザーアプリケーションはコーティングなしで使用できます.

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適したメタレンスの選択は主にレーザー波長,光口 (激光射線直径),有効焦点距離,焦点深さ,焦点点直径,レーザー電源を考慮する.レーザーの電力は約50Wメタレンは,塗装を必要とせずに安定して動作できます.マークエリアのサイズに基づいて有効な焦点距離を選択します.焦点距離が長ければ大きいほど,マークエリアは大きくなります.焦点が大きいほどしたがって,合理的な有効焦点距離を選択することが必要です.

メタレンから第2のスキャニングミラーまでの距離が L1 と仮定すると,第2のスキャニングミラーから作業面までの距離は L2 と仮定します.メタレンの有効焦点距離はEFLです,EFL=L1+L2.電磁気計の最大スキャン角が θ である場合,中心焦点と縁焦点の間の距離はマークエリアの半径Rである,R=TAN(θ) * L2,R,最外端のデフォクスの量は L3 と呼ばれる L3=L2/COSIN(θ) - L2焦点の深さの1/2未満で,焦点平面の標識と同じくらい明確で均一でなければならない.

方形マークエリアの横の長さとガルバノメーターの最大スキャニング光学角が ± 20°であると仮定し,L1=50mmとする.メタレン ± L3 の中心波長とデフォクスの量を下記の表のように計算する.メタレンの効果的焦点距離EFLを選択する際には,メタレンから第二のスキャニングミラーまでの距離であるL1も考慮する必要があります.メタレンスの有効焦点距離 EFL=L1+L2.

標識面の横の長さ

mm

標識エリア半径 R

mm

最大スキャン角度

θ

L2

mm

効果的な焦点距離 EFL

mm

焦点が消える L3

mm

50×50 35.36 0.35 97.14 147.14 6.23
75×75 53.03 0.35 145.71 195.71 9.35
100×100 70.71 0.35 194.28 244.28 12.47
125×125 88.39 0.35 242.84 292.84 15.59
150×150 106.07 0.35 291.41 341.41 18.70
200×200 141.42 0.35 388.55 438.55 24.94
250×250 176.78 0.35 485.69 535.69 31.17
300×300 212.13 0.35 582.83 632.83 37.40
350×350 247.49 0.35 679.97 729.97 43.64
400×400 282.84 0.35 777.10 827.10 49.87

下の図は,マーク表面とメタレンとの間の異なる距離でのマーク効果を示し,最大75mmのデフォクスを示しています.マークははっきりしています.

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次の表は,当社の製品の一部のパラメータの範囲を示しています.

波長 効果的な焦点距離 EFL 焦点深さ (DOF) 直径 スポットサイズ
355 nm 25〜100mm 2550mm 3〜6mm 25〜250ミリ
532 nm 25〜100mm 2550mm 3〜6mm 25〜250ミリ
1064 nm 25〜100mm 2550mm 3〜6mm 25〜250ミリ
10.6 um 25〜100mm 2550mm 3〜6mm 50〜250ミリ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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